文件名称：CdS多晶薄膜的制备及其性能的研究 (1999年)
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更新时间：2024-05-14 08:51:23
自然科学 论文
采用化学池沉积法，同时在3种衬底（载玻片、ITO玻片、SnO2玻片）上沉积Cds薄膜，利用扫描电镜(SEM〕、透射光谱,X射线衍射（XRD)和微电流高阻计等方法对沉积膜进行了测试分析，算出了CdS薄膜的能隙宽度R0和电导澈活R0490-6756结果表明沉积膜表观均匀、密实，结晶取向性以SnO2玻片衬底为佳；能隙宽度R0= 20490-6756230V；电导激活能E0=00490-6756 92~ 10490-675601eV0490-6756阐述了Cds膜的生长沉积化学过程及机制0490-6756