射频磁控溅射制备CdS多晶薄膜及其性能研究 (2013年)

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文件名称：射频磁控溅射制备CdS多晶薄膜及其性能研究 (2013年)
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更新时间：2021-05-08 11:04:12
自然科学 论文 在室温和不同功率下,用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备了CdS薄膜。运用探针式台阶仪、x射线衍射分析仪、紫外可见分光光度计、扫描电镜(SEM)等仪器对制备的CdS薄膜进行了表征分析。主要研究讨论了溅射功率对薄膜性质的影响。结果表明:制备的CdS薄膜为立方相和六方相的混合晶相,沿着六方(002)、(004)方向和立方(111)、(222)方向有着明显的择优取向;随着功率的增加,薄膜的厚度增加,晶粒的尺寸增大,光学吸收边红移。通过优化实验参数,在室温、0.6Pa,30W、纯氮气气氛条件下可以制备出结晶性能良好的