文件名称:MOCVD方法在Ni/Si(111)模板上生长ZnO薄膜 (2006年)
文件大小:163KB
文件格式:PDF
更新时间:2024-06-25 05:57:26
自然科学 论文
用常压金属有机化学气相外延方法在Ni/Si(111)模板上生长ZnO薄膜,研究了ZnO低温缓冲层的厚度(50
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用常压金属有机化学气相外延方法在Ni/Si(111)模板上生长ZnO薄膜,研究了ZnO低温缓冲层的厚度(50