射频磁控溅射制备CuAlO2薄膜及性能表征 (2012年)

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文件名称：射频磁控溅射制备CuAlO2薄膜及性能表征 (2012年)
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更新时间：2021-05-07 14:15:03
自然科学 论文 利用Al(OH)3和Cu2O高温固相反应烧结制备的靶材，采用射频磁控溅射法，在玻璃基片上制备非晶CuAlO2薄膜．薄膜的表面均匀，颗粒大小约为50 nm，可见光范围内透射率为60％，平均折射率达2．0，直接带隙为3．86 eV．随着在紫外光源下曝光时间的增加，薄膜的接触角从96．3°减小到87．5°，薄膜仍呈现出良好的疏水性．