文件名称:内场助结构Ag-O-Cs光电发射薄膜真空制备研究 (2001年)
文件大小:578KB
文件格式:PDF
更新时间:2024-06-01 16:37:34
自然科学 论文
通过掩膜预处理和挡板转移技术的配合 ,利用真空沉积方法首次制备了内场助结构Ag O Cs光电发射薄膜。Ag O Cs薄膜内场助光电发射特性测试结果表明 ,该方法能够有效地实现Ag O Cs薄膜体内电场的加载与表面电极的引出 ,薄膜光电灵敏度随内场偏压的增大而上升。
文件名称:内场助结构Ag-O-Cs光电发射薄膜真空制备研究 (2001年)
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自然科学 论文
通过掩膜预处理和挡板转移技术的配合 ,利用真空沉积方法首次制备了内场助结构Ag O Cs光电发射薄膜。Ag O Cs薄膜内场助光电发射特性测试结果表明 ,该方法能够有效地实现Ag O Cs薄膜体内电场的加载与表面电极的引出 ,薄膜光电灵敏度随内场偏压的增大而上升。