真空退火法制备的VOx薄膜的微观结构研究 (2000年)

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文件名称：真空退火法制备的VOx薄膜的微观结构研究 (2000年)

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更新时间：2024-06-10 01:16:24

自然科学 论文

以V2O5分末为原料采用真空蒸发镀膜法结合真空退火还原的方法，在单晶Si（100）衬底上得到了以VO2为主的薄膜。采用X射线衍射（XRD）技术和扫描电子显微镜（SEM）技术对不同退火条件下所得薄膜的物相和表面形貌进行分析，得到了薄膜的微观结构与退火条件的关系，并对最佳退火条件进行了探索。