CuLaO2薄膜的制备和光电性能研究 (2008年)

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文件名称：CuLaO2薄膜的制备和光电性能研究 (2008年)
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更新时间：2021-05-27 12:03:29
工程技术 论文 采用传统的固相烧结法制备出纯相CuLaO2粉末，以此为靶材，首次采用射频磁控溅射法制备 CuLaO2薄膜并进行退火研究，得到了具有少量杂相的CuLaO2薄膜．其透过率在红外光区较高，近70％，可见光范围相对较低．CuLaO2薄膜的电导率约6.7×10-4S/cm．对比分析了CuLaO2粉末及薄膜室温光致发光性能．测试结果表明，粉末和薄膜在450 nm～650 nm范围都有明显的发光带，而薄膜有少量的杂峰，杂峰是由于La2O3、Cu的氧化物及石英衬底的影响．