氧等离子体刻蚀CVD金刚石膜 (2009年)

【文件属性】：

文件名称：氧等离子体刻蚀CVD金刚石膜 (2009年)

文件大小：3.41MB

文件格式：PDF

更新时间：2024-06-21 00:29:54

工程技术 论文

分别采用直流辉光、微波和电子回旋共振3种氧等离子体对CVD金刚石膜表面进行了刻蚀.利用扫描电子显微镜对三种等离子体刻蚀后金刚石膜表面的形貌进行了观察分析.通过对刻蚀后形貌差异的比较,探讨了它们各自的刻蚀机理,并从等离子体鞘层理论出发建立了刻蚀模型。