不同织构CVD金刚石膜的Hall效应特性

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文件名称：不同织构CVD金刚石膜的Hall效应特性
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更新时间：2021-04-04 01:35:27
金刚石膜; 载流子浓度; 迁移率; 霍尔效应 采用热丝化学气相沉积法在p型硅衬底上制备了不同织构的多晶金刚石膜,使用XRD表征了CVD金刚石膜的结构特征,研究了退火后不同织构金刚石膜的电流特性,使用Hall效应检测仪研究了金刚石膜的霍尔效应特性及随温度变化的规律,结果表明所制备的金刚石膜是p型材料,载流子浓度随着温度的降低而增加,迁移率随着温度的降低而减小.室温下[100]织构金刚石薄膜的载流子浓度和迁移率分别为4.3×104cm3和76.5cm2/V·s.