文件名称：磁控溅射Co1-x-Ptx薄膜晶体的结构与磁性能 (2010年)
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更新时间：2024-05-26 22:29:04
工程技术 论文
通过磁控溅射制备了一系列不同成分的Co-Pt二元合金薄膜,并利用振动样品磁强计(VSM)和X-射线衍射技术(XRD)研究了R含量对薄膜磁性能和晶体结构的影响。结果表明：R的摩尔分数在0－28.5％范围内,薄膜均为密排六方结构(HCP);Co-Pt膜的晶格常数(c,a)随R含量的增加呈线性增大趋势,但其c/a的值却先减小后增大;矫顽力则先增大后减小,在R的摩尔分数为20%时达到最大值(156.89kA/m);饱和磁化强度随R含量的增加而单调减小。