文件名称：对靶磁控溅射 FeCoN薄膜的结构与磁性 (2011年)
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更新时间：2024-06-20 00:52:25
自然科学 论文
利用改进后的对靶磁控溅射系统,以N2 /Ar混合气体为溅射气体,在未加热的Si(111) 衬底上沉积FeCoN薄膜。采用X射线衍射仪( XRD)、透射电子显微镜( TEM)、扫描电子显微 镜( SEM)和超导量子干涉仪( SQUID)研究不同Co靶溅射功率对FeCoN薄膜样品的结构、形 貌和磁性性能的影响。结果表明:固定Fe靶功率为160 W(电流I =0.4 A),当Co靶功率为 2.4 W( I =0.04 A)时,薄膜由Co溶入ε-Fe3N中形成的ε-( Fe,Co)3N化合物相构成;当Co 靶功率