沉积压力对磁控溅射Mg薄膜结构的影响 (2012年)

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文件名称：沉积压力对磁控溅射Mg薄膜结构的影响 (2012年)
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更新时间：2021-06-14 01:43:59
工程技术 论文 采用直流磁控溅射方法在氧化锆固体电解质表面制备了Mg金属薄膜,利用XRD和SEM研究了沉积压力(0.9～2.1 Pa)对薄膜形貌和结构的影响.结果表明:随着沉积压力的提高,薄膜结晶程度逐渐变差,晶粒尺寸减小,表面粗糙度增大;薄膜呈(002)择优生长的柱状晶结构,且随着沉积压力的提高薄膜厚度先增加后减小.