文件名称：负偏压对反应磁控溅射AlN薄膜的影响 (2011年)
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更新时间：2024-05-12 21:27:08
自然科学 论文
利用反应磁控溅射制备AIN薄膜，研究了基底负偏压对薄膜结构及其性能的影响．XRD和SEM结果表明：用此方法获得的A1N薄膜呈晶态，负偏压对A1N择优取向产生一定的影响，随着偏压的增大，薄膜表面晶粒尺寸有长大趋势．根据透射谱测试和包络线计算结果可知，薄膜在可见光和红外区域透射率高，随着偏压的增大，薄膜的折射率也随之增大．
负偏压对反应磁控溅射AlN薄膜的影响 (2011年)
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