偏压对电弧镀TiN薄膜结构和机械性能的影响 (2012年)

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文件名称：偏压对电弧镀TiN薄膜结构和机械性能的影响 (2012年)
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更新时间：2021-05-06 23:48:32
自然科学 论文 采用SA-6T电弧离子镀设备在抛光后的W18Cr4V高速钢表面沉积TiN薄膜，在其他参数不变的情况下，考察偏压对薄膜结构和机械性能的影响．通过扫描电镜观察了TiN薄膜的表面形貌，采用X射线衍射仪对结构进行物相分析，利用XP-2台阶仪测试了薄膜的厚度，并用纳米压痕仪和多功能表面测试仪分别对薄膜的硬度和膜基结合力进行测量．结果表明：随着负偏压的增加，具有面心立方结构的TiN薄膜沿(111)密排面的择优生长明显加强；薄膜厚度(沉积速率)呈现先增大后减小的趋势，在负偏压为100 V时达到最大；薄膜综合力学性能在负