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文件名称：阴极弧电流对TiN及(TiTa) N薄膜结构和性能影响 (2002年)
文件大小：944KB
文件格式：PDF
更新时间：2021-05-10 05:20:13
自然科学 论文
利用电弧离子镀技术在高速钢基体上制备了 TiN和( TiTa) N薄膜。采用X射线衍射( XRD)、透射电子显微镜( TEM)对薄膜的微观组织结构进行了系统分析。研究结果显示:随着阴极弧电流的增加,沉积温度线性上升,薄膜由(111)织构向无择优取向转化;阴极弧电流对TiN薄膜的显微硬度影响较大,而对( TiTa) N薄膜的显微硬度无显著影响。此外,讨论了阴极弧电流对 TiN和(TiTa) N薄膜的微观组织和性能的影响机制。