Cr对多弧离子镀TiN及其复合膜(Ti, Cr) N性能的影响 (2006年)

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文件名称：Cr对多弧离子镀TiN及其复合膜(Ti, Cr) N性能的影响 (2006年)
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更新时间：2021-05-15 06:40:44
工程技术 论文 通过改变Cr靶电流强度,在国产AIP-O1型多弧离子镀膜机上制备不同Cr含量的(Ti,Cr) N复合薄膜。研究Cr的添加对薄膜硬度、薄膜相结构及晶格常数等性能的影响,探讨薄膜的硬化机理。结果表明:Cr的加入可显著提高复合薄膜的硬度,显微硬度可高达HV2665;复合薄膜是以TiN为基的(Ti,Cr)N薄膜,薄膜中没有独立的CrN和CrzN相,同时由于Cr的加入,薄膜的择优取向从(111)晶面逐渐过渡到(200)晶面,随Cr靶电流的增大,所得(Ti,Cr) N复合膜中出现单质Cr。