文件名称：磁控溅射与电弧离子镀制备TiN薄膜的比较 (2011年)
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更新时间：2024-05-12 21:26:53
自然科学 论文
分别采用磁控溅射和电弧离子镀在抛光后的W18Cr4V高速钢基体表面沉积TiN膜层，利用纳米力学系统、扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对薄膜进行测试，比较了两种方法所制备的薄膜的异同．结果表明：磁控溅射所制备的薄膜表面平整，但沉积速率和硬度均低于电弧离子镀制备的薄膜．
磁控溅射与电弧离子镀制备TiN薄膜的比较 (2011年)
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