磁控溅射TiN薄膜工艺参数对显微硬度的影响 (2007年)

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文件名称：磁控溅射TiN薄膜工艺参数对显微硬度的影响 (2007年)
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更新时间：2021-05-30 12:35:11
工程技术 论文 测试了各种工艺参数下磁控溅射制备 TiN薄膜的显微硬度,并研究了 TiN薄膜硬度随偏压、N 2流量及 溅射功率的变化。实验结果表明:N2流量对薄膜性能和结构影响较大,随着 N2流量的增加,氮化钛薄膜的硬度 先急剧上升,到15 mL/s时达到最大值,然后氮化钛薄膜硬度平缓下降,在无偏压的情况下,氮化钛薄膜的硬度 很低,加偏压后,由于离子轰击作用,薄膜硬度增加,但过高的负偏压反而会降低氮化钛薄膜硬度。