文件名称：直流磁控溅射制备非晶硅薄膜的研究
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更新时间：2024-05-08 05:50:47
直流磁控溅射 沉积速率 非晶硅薄膜
非晶硅薄膜（a-Si）是目前重要的光敏材料，在很多领域得到广泛应用。直流磁控溅射具有工艺简单，沉积温度低等优点，是制备薄膜的一种重要技术。采用直流磁控溅射工艺在玻璃基板上沉积薄膜，并对样品进行了退火处理。研究了沉积速率与溅射功率的关系。结果表明薄膜的沉积速率与溅射功率近似有线性关系。利用X射线衍射（XRD）对薄膜进行了分析鉴定，结果表明溅射的薄膜是非晶硅薄膜。利用扫描电子显微镜（SEM）对非晶硅薄膜的表面形貌进行了观察和分析，与X射线衍射测试的结果一致。所以，利用直流磁控溅射工艺能在常温下能快速制备出良好的非晶硅薄膜。