掺杂与热处理温度对Y02薄膜性能的影响 (2006年)

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文件名称：掺杂与热处理温度对Y02薄膜性能的影响 (2006年)
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更新时间：2021-05-22 17:06:30
工程技术 论文 应用无机溶胶-凝胶法在玻璃基片上制得VO2薄膜样品，并研究了真空热处理温度和掺杂对VO2薄膜光电性能的影响．结果表明：在350，400，450℃真空热处理温度下得到的VO2薄膜，其相变温度大约都在65℃，其中400℃真空热处理温度下得到的V0。薄膜表现出明显的电阻突变现象；在VO2薄膜中掺入W6+，Mo6+，Cu2+(原子比均为2％)，VO2薄膜的相变温度得到有效降低，但是掺杂会使VO2薄膜的光学透过性降低．