掺杂与热处理温度对Y02薄膜性能的影响 (2006年)

时间:2024-06-11 10:53:10
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文件名称:掺杂与热处理温度对Y02薄膜性能的影响 (2006年)

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更新时间:2024-06-11 10:53:10

工程技术 论文

应用无机溶胶-凝胶法在玻璃基片上制得VO2薄膜样品,并研究了真空热处理温度和掺杂对VO2薄膜光电性能的影响.结果表明:在350,400,450℃真空热处理温度下得到的VO2薄膜,其相变温度大约都在65℃,其中400℃真空热处理温度下得到的V0。薄膜表现出明显的电阻突变现象;在VO2薄膜中掺入W6+,Mo6+,Cu2+(原子比均为2%),VO2薄膜的相变温度得到有效降低,但是掺杂会使VO2薄膜的光学透过性降低.


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