热处理对MOCVD外延生长GaN薄膜性能的影响

时间:2015-11-21 12:40:30
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文件名称:热处理对MOCVD外延生长GaN薄膜性能的影响

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更新时间:2015-11-21 12:40:30

MOCVD gan

GaN是一种宽禁带直接带隙半导体材料,在电子器件领域有着广泛的应用。但由于缺 乏合适的衬底材料,限制了器件性能的进一步提高。因此,如何提高GaN外延层的性能就 成为GaN材料研究和应用中的主要问题。


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