文件名称:热处理对MOCVD外延生长GaN薄膜性能的影响
文件大小:2.46MB
文件格式:PDF
更新时间:2015-11-21 12:40:30
MOCVD gan
GaN是一种宽禁带直接带隙半导体材料,在电子器件领域有着广泛的应用。但由于缺 乏合适的衬底材料,限制了器件性能的进一步提高。因此,如何提高GaN外延层的性能就 成为GaN材料研究和应用中的主要问题。
文件名称:热处理对MOCVD外延生长GaN薄膜性能的影响
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MOCVD gan
GaN是一种宽禁带直接带隙半导体材料,在电子器件领域有着广泛的应用。但由于缺 乏合适的衬底材料,限制了器件性能的进一步提高。因此,如何提高GaN外延层的性能就 成为GaN材料研究和应用中的主要问题。