热处理对掺杂WO3的ITO薄膜性能的影响 (2011年)

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文件名称：热处理对掺杂WO3的ITO薄膜性能的影响 (2011年)

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更新时间：2024-06-06 17:16:16

工程技术 论文

用磁控溅射镀膜方法,制备掺杂WO3的ITO(x WO3-ITO)薄膜,经过热处理后对掺杂薄膜的表面形貌、吸收和透射光谱、面电阻等性能进行了测试。结果表明:适当的热处理能够提高xWO3-ITO薄膜在可见光范围内的透过率和在波长为228 nm处的吸光度。同时,该薄膜热处理后的方块电阻明显降低,导电性能得到明显提高。