论文研究-氢气氛围下退火对氧化镓薄膜性质的影响 .pdf

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文件名称：论文研究-氢气氛围下退火对氧化镓薄膜性质的影响 .pdf
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更新时间：2022-09-10 05:30:43
氧化镓薄膜 氢气氛围下退火对氧化镓薄膜性质的影响，牛成军，夏晓川，采用MOCVD制备了ε-Ga2O3薄膜样品，利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、紫外可见分光光度计和半导体特性分析仪等表征手段�