论文研究-GaN基板氧化对MOCVD法生长氧化镓薄膜结晶特性的影响 .pdf 时间:2022-09-05 06:59:38 【文件属性】: 文件名称:论文研究-GaN基板氧化对MOCVD法生长氧化镓薄膜结晶特性的影响 .pdf 文件大小:736KB 文件格式:PDF 更新时间:2022-09-05 06:59:38 热氧化 GaN基板氧化对MOCVD法生长氧化镓薄膜结晶特性的影响,庄睿,夏晓川,通过选择不同温度采用热氧化方式,在GaN基板上预先形成氧化镓薄层,而后以高纯氧气和三乙基镓为反应源,利用低压金属有机化合物气 立即下载