文件名称：真空退火对ZnS与PbS混合薄膜结构和光学性质的影响 (2012年)
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更新时间：2024-06-19 01:33:40
自然科学 论文
采用电子束蒸发的方法在石英基片上一次沉积厚度约为400 nm的ZnS与PbS混合薄膜多个样品，随后将不同样品在3×10-3Pa的真空中分别以100～600℃退火1 h．样品的成分、结晶性能、表面形貌和光学性质分别采用X射线能量色散谱、X射线衍射仪、扫描电子显微镜、原子力显微镜和分光光度计等进行检测．结果表明，制备态样品为非晶态，300℃真空退火的样品已开始结晶；当退火温度不低于500℃时，退火过程中，混合薄膜中的PbS大量挥发，退火后样品中的PbS含量明显减小．随着退火温度从100℃升高到600℃，样品的