文件名称：退火对TiO2和Ta2O5光学薄膜的结构和光学性质的影响 (2006年)
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更新时间：2024-07-02 01:48:41
自然科学 论文
将反应磁控溅射制备的二氧化钛和五氧化二钽薄膜在温度400℃的条件下退火处理。利用X射线衍射、原子力显微镜和分光光度计等设备对退火后薄膜的结构、表面形貌和光学性质进行研究。实验表明：退火后的TiO2薄膜为多晶结构，薄膜的表面粗糙度、折射率和消光系数都出现增大现象。然而，对于退火后的Ta2O5薄膜，它的结构还是非晶态，薄膜的表面粗糙度比退火前小；同时折射率和消光系数均有减小。这些结果说明薄膜退火后的特性与薄膜材料的内部结构及结晶转变温度等有密切相关。