文件名称：衬底温度对Ta2O5薄膜结构和光学性质的影响* (2013年)
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更新时间：2024-06-07 01:56:41
工程技术 论文
采用直流磁控溅射法在不同衬底温度下(27?150?300?450和750 ℃)制备Ta2O5 薄膜?利用 X射线衍射?扫描电子显微镜(SEM)和紫外-可见光分光光度计对薄膜的结构?表面形貌和光学性质进行分析研究?实验结果表明，当衬底温度为450℃时，薄膜开始结晶?低于450℃，薄膜为无定形态，光学透过率随着衬底温度的升高而升高，在可见光区域最大透过率为85%?薄膜结晶生成晶粒，会对通过的光束产生散射，降低透过率，光学性能下降?这些结果说明衬底温度和薄膜材料的结构?结晶转变温度及光学性质密切相关?