不同制备方法对薄膜性能的影响 (2008年)

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文件名称：不同制备方法对薄膜性能的影响 (2008年)
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更新时间：2021-05-08 20:28:29
自然科学 论文 采用离子束反应溅射、等离子体辅助、射频离子源辅助、Kaufman离子源辅助比较不同制备方法对薄膜性能的影响．镀制了Ta2O5、SiO2两种材料的单层膜及由它们组成的多层膜．结果表明：离子束反应溅射能够制备出质量最好的激光膜，抗激光损伤阈值达到17.39 J·cm-2，等离子体辅助和射频离子源辅助制备的膜层结构致密、散射比和吸收比小，Kaufman离子辅助制备的膜层各项性能指标都相对较低．