文件名称：电压对电沉积PbS薄膜结构和性能的影响 (2008年)
文件大小：1010KB
文件格式：PDF
更新时间：2024-05-29 07:54:51
自然科学 论文
采用阴极恒电压法在ITO导电玻璃表面沉积了PbS薄膜，并用X-射线衍射仪（XRD）、原子力显微镜（AFM）以及紫外/可见/近红外光谱仪对薄膜的结构和光学性能进行了表征，研究了沉积电压对薄膜的相组成、显微形貌以及光学性质的影响。结果表明：在U=18V，pH=2.5，沉积时间为20min，加入EDTA作络合剂的情况下，可制备出沿（111）和（200）晶面取向生长的立方相PbS薄膜。薄膜组成均匀而致密，对紫外线有较强的吸收作用，而对可见光有较好的透过作用。随沉积电压增加，薄膜的结晶性变好，光吸收性能明显增强。