文件名称：沉积温度对ZnO薄膜结构和光学性能的影响 (2007年)
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更新时间：2024-05-31 14:01:33
工程技术 论文
采用RF磁控溅射法，在单晶硅衬底上生长出高质量的(002)晶面取向的ZnO薄膜．利用X射线衍射分析(XRD)、原子力显微镜(AFM)、光栅光谱仪等技术研究了沉积温度对 Zn0薄膜的结构、应力状态、表面形貌和发光性能的影响．研究结果表明，在射频功率为100 W时所制备的ZnO薄膜当沉积温度为500℃时能获得最佳的C轴取向和最小半高宽，此时 Zn0薄膜具有较小的压应力和较好的紫外发光性．