电子束蒸发制备的ZnS薄膜的物相结构和光学性能 (2014年)

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文件名称：电子束蒸发制备的ZnS薄膜的物相结构和光学性能 (2014年)
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更新时间：2021-05-20 23:25:54
自然科学 论文 用电子束蒸发法在不同衬底温度下制备了厚度为100nm左右的ZnS薄膜,利用X射线衍射(XRD)、紫外-可见光分光光度计(UV-visSpectrophotometer)研究了ZnS薄膜的晶体结构、光学性能,分析了衬底温度对ZnS薄膜结构与光学特性的影响。结果表明:不同衬底温度下制备的ZnS薄膜均具有闪锌矿结构(111)面择优取向生长的特征;衬底温度为200℃时制备的ZnS薄膜的(111)晶面衍射峰最强,半高宽最小,晶粒最大;制备的ZnS薄膜对可见光有良好的透过性,由于量子尺寸效应,电子束蒸发制备的ZnS薄