文件名称：电化学脉冲腐蚀制备多孔硅微腔技术 (2010年)
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更新时间：2024-05-18 05:29:20
自然科学 论文
基于电化学脉冲腐蚀方法,用正交实验法给出了制备多孔硅微腔较为理想的制备参数:脉冲周期为5ms,占空比为5/10和上下各6个周期的Bragg镜面层,得到了半峰宽为6nm的窄峰发射的多孔硅微腔。并用了以HF酸扩散为基础的多孔硅动态腐蚀机理对实验结果进行了解释,认为在用电化学脉冲腐蚀法制备多孔硅微腔的过程中,不但要考虑到HF酸对硅的纵向腐蚀(电流腐蚀),也要考虑到HF酸对多孔硅硅柱的横向腐蚀(浸泡腐蚀)。