衬底对直流磁控溅射制备TiO2薄膜结构和形貌的影响 (2012年)

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文件名称：衬底对直流磁控溅射制备TiO2薄膜结构和形貌的影响 (2012年)
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更新时间：2021-05-16 21:05:58
自然科学 论文 在气压为1 Pa和2 Pa的情况下，文章采用直流磁控溅射法分别在Si(100)、Al2O3陶瓷、普通载玻片3种衬底上生长TiO2薄膜；利用原子力显微镜对TiO2薄膜的表面形貌进行观察，研究了压强及衬底对薄膜表面形貌的影响。并研究表明，在Si(100)衬底上生长的TiO2薄膜，气压为2 Pa时比1 Pa时表面粗糙度要大；在相同溅射气压下，Si(100)衬底上得到的TiO2薄膜质量明显优于Al2O3陶瓷和普通载玻片衬底上的。