文件名称：PLD法制备BiFeO3薄膜及其性能研究* (2013年)
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更新时间：2024-06-07 02:20:28
工程技术 论文
采用快速等离子烧结法(SPS)制得纯相 BiFeO3靶材，利用脉冲激光沉积(PLD)法将其沉积在 Si(100)衬底上，制得BiFeO3薄膜。通过调节各种工艺参数，在沉积温度650℃，氧压2Pa，靶基距5cm，脉冲激光频率7HZ、激光能量350mJ条件下获得了高择优取向、高结晶度的BiFeO3薄膜。在此工艺条件下，又制备了不同厚度的BiFeO3薄膜。用XRD、SEM等手段对薄膜相和形貌进行了表征。结果表明，制备的薄膜有较高的形貌质量，薄膜的铁电、铁磁性能呈现出与厚度的强相关性；其中300nm厚的薄膜质量最