文件名称:论文研究- PECVD薄膜颗粒缺陷研究和改善 .pdf
文件大小:464KB
文件格式:PDF
更新时间:2022-09-06 19:43:28
薄膜
PECVD薄膜颗粒缺陷研究和改善 ,王铁渠,黄其煜,在半导体集成电路制造PECVD工艺中,经常会遇到薄膜颗粒缺陷问题。本论文总结了PECVD 中薄膜颗粒的类型和形成原因以及改善方法。PECVD��
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薄膜
PECVD薄膜颗粒缺陷研究和改善 ,王铁渠,黄其煜,在半导体集成电路制造PECVD工艺中,经常会遇到薄膜颗粒缺陷问题。本论文总结了PECVD 中薄膜颗粒的类型和形成原因以及改善方法。PECVD��