PECVD沉积氮化硅薄膜应用研究.pdf 时间:2022-09-25 10:39:49 【文件属性】: 文件名称:PECVD沉积氮化硅薄膜应用研究.pdf 文件大小:91KB 文件格式:PDF 更新时间:2022-09-25 10:39:49 LabVIEW 采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD) ,在单晶硅衬底上生长氮化硅(SiN) 薄膜,再对薄膜进行快速热退火处理,研究了在不同温度下SiN 立即下载