PECVD沉积氮化硅薄膜应用研究.pdf

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文件名称：PECVD沉积氮化硅薄膜应用研究.pdf

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更新时间：2022-09-25 10:39:49

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采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD) ,在单晶硅衬底上生长氮化硅(SiN) 薄膜,再对薄膜进行快速热退火处理,研究了在不同温度下SiN