片温度对TiO2薄膜的微观结构和紫外光电特性的影响 (2010年)

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文件名称：片温度对TiO2薄膜的微观结构和紫外光电特性的影响 (2010年)
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更新时间：2021-06-11 22:27:05
工程技术 论文 为了制备具有紫外光电特性的TiO2薄膜，采用直流磁控溅射(DC)的方法在不同温度的玻璃基片上制备了TiO2薄膜。通过用x射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、X-射线能谱仪(EDS)测试薄膜的晶体结构、表面形貌和薄膜组成成分。结果表明：当基片温度在250℃及以上时，制备出具有锐钛矿结构的TiO2薄膜，并且有较好化学计量比。TiO2薄膜电阻在紫外光照射下的响应时间随基片温度的升高而减少。