射频磁控溅射司太立合金淀积薄膜的主要元素成份测量 (1993年)

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文件名称：射频磁控溅射司太立合金淀积薄膜的主要元素成份测量 (1993年)

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更新时间：2024-05-16 02:06:29

自然科学 论文

采用组份均匀薄膜近似，对射频磁控溅射的司太立沉积薄膜进行了背散射测量，结果发现薄膜中钨的含量与司太立靶材相一致，表明采用该工艺直接由司太立靶材制备司太立薄膜是可行的。