相变型光存储薄膜的脉冲激光制备 (1993年)

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文件名称：相变型光存储薄膜的脉冲激光制备 (1993年)

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更新时间：2024-06-04 09:30:27

自然科学 论文

系统地探索脉冲激光闪蒸法制备相变型光存储薄膜的工艺，发现激光脉冲能量的大小和淀积衬底的温度都是影响薄膜质量的重要因素。当激光能量高时，膜粗糙、成份与靶材保持一致，而当激光能量较低时，膜均匀、光滑，而成份与靶材有偏离。当衬底温度在约25℃时，形成非晶膜，而当衬底温度较高时，可形成多晶膜，村底温度过高，则不能形成连续膜。