文件名称：激光能量对脉冲激光沉积法制备ZnO薄膜性能的影响* (2009年)
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更新时间：2024-05-30 04:12:20
工程技术 论文
脉冲激光沉积技术(PID)易于获得高质量的氧化物薄膜已成为一种重要的制备ZnO薄膜的技术。采用脉冲激光沉积(PLD)(KrF准分子激光器：波长248 nm，频率5 Hz，脉冲宽度20 ns)方法在氧气气氛中以高纯Zn(99.999％)为靶材、在单晶硅和石英衬底表面成功生长了ZnO薄膜。通过X射线衍射仪、表面轮廓仪、荧光光谱仪、紫外可见分光光度计对合成薄膜材料的晶体结构、厚度、光学性质等进行了研究，分析了激光能量变化对其性能的影响。实验结果表明我们使用PLD法可以制备出(002)结晶取向和透过率高于75％的