溅射时间对脉冲激光沉积制备β-FeSi2薄膜的影响 (2011年)

【文件属性】：
文件名称：溅射时间对脉冲激光沉积制备β-FeSi2薄膜的影响 (2011年)
文件大小：1.64MB
文件格式：PDF
更新时间：2021-05-17 11:22:27
自然科学 论文 本文基于脉冲激光沉积(PLD)方法及热退火处理方式,利用输出波长为1064 nm的Nd: YAG脉冲激光器在P型Si (100)衬底上生长了均匀的单相β-FeSi2薄膜。采用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)分析技术,研究了β-FeSi2薄膜的结构、组分、结晶质量和表面形貌。结果发现,在其他相同沉积条件下,随着溅射时间的增加,薄膜晶化程度、颗粒大小和形状、表面粗糙度都发生规律性变化,通过分析比较得出,在本实验条件下溅射时间为40 min制备的β-FeSi2薄膜结晶质量较好。