射频磁控溅射制备Zn0光波导薄膜 (2010年)

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文件名称：射频磁控溅射制备Zn0光波导薄膜 (2010年)

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更新时间：2024-05-12 09:27:55

工程技术 论文

采用射频磁控溅射技术在石英玻璃上制备出了具有高度。轴择优取向的Zn0薄膜。利用X射线衍射(XRD)、背散射分析(RBS)、棱镜祸合等技术对其结构、光波导性质进行研究,结果表明减小溅射压强有利于提高薄膜的结晶质量,增强薄膜的c轴择优取向。溅射压强越小,薄膜越厚,薄膜的有效折射率越接近晶体材料的折射率。