三氧化钼薄膜的制备及其光学性质研究 (2013年)

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文件名称：三氧化钼薄膜的制备及其光学性质研究 (2013年)
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更新时间：2021-05-07 14:19:03
自然科学 论文 采用离子交换和化学沉淀法在玻璃基底表面成功合成了 h-MoO3和 琢-MoO3薄膜. 分别用 XRD、SEM等手段对产物进行表征,通过荧光光谱和紫外可见光谱对 MoO3薄膜的光学性质进行了详细的研究. 结果表明: h-MoO3薄膜有两个荧光峰,分别位于440、630 nm; 琢-MoO3薄膜仅在440 nm 处有一个荧光峰. 440 nm 处的荧光发射峰来自于 MoO3的导带-价带电子跃迁,630 nm 处的发射峰来源于 h-MoO3薄膜中氧空穴的存在. 所制备薄膜的光致变色研究表明,相对于 琢-MoO3