射频磁控溅射法制备CdTe薄膜及其性质的研究 (2009年)

时间:2024-05-28 14:06:33
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文件名称:射频磁控溅射法制备CdTe薄膜及其性质的研究 (2009年)

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更新时间:2024-05-28 14:06:33

自然科学 论文

为了制备高效率的CdS/CdTe薄膜叠层太阳电池,本文采用射频磁控溅射技术在不同温度玻璃衬底上制备了CdTe多晶薄膜。利用X射线衍射仪其微结构;用紫外分光光度计测量薄膜的透过谱,计算出了能隙Eg;利用原子力显微镜表征其微观形貌。结果显示在常温时沉积的薄膜晶面取向性好,为立方闪锌矿型结构,有较低的透过率。以上结果表明,用射频磁控溅射技术更适于制备CdS/CdTe薄膜叠层太阳电池中的CdTe薄膜。


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