射频磁控溅射法制备CdTe薄膜及其性质的研究 (2009年)

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文件名称：射频磁控溅射法制备CdTe薄膜及其性质的研究 (2009年)
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更新时间：2021-05-08 20:19:53
自然科学 论文 为了制备高效率的CdS/CdTe薄膜叠层太阳电池，本文采用射频磁控溅射技术在不同温度玻璃衬底上制备了CdTe多晶薄膜。利用X射线衍射仪其微结构；用紫外分光光度计测量薄膜的透过谱，计算出了能隙Eg；利用原子力显微镜表征其微观形貌。结果显示在常温时沉积的薄膜晶面取向性好，为立方闪锌矿型结构，有较低的透过率。以上结果表明，用射频磁控溅射技术更适于制备CdS/CdTe薄膜叠层太阳电池中的CdTe薄膜。