文件名称：脉冲激光沉积CNx薄膜的微观组织结构表征 (2013年)
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更新时间：2024-06-04 16:19:52
自然科学 论文
利用脉冲激光烧蚀CNx靶，在室温至450℃基片温度时沉积CNx薄膜．利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、X射线光电子谱(XPS)和拉曼光谱(Raman)等对CNx薄膜的表面形貌、化学成分、结晶性以及价键状态进行了分析．结果表明：所得CNx薄膜呈非晶状态，表面形貌与沉积温度密切相关，基片温度高于150℃时薄膜表面较为光滑．随着基片温度的增加，薄膜中C―N键的面积分数从31．2％逐渐减少至14．1％，N-sp3 C和N-sp2C键的面积分数随之减少，300℃时最利于形成sp3键．Raman光谱中比值