氧气分压对磁控溅射法制备ZAO膜的影响 (2005年) 时间:2021-05-09 07:12:49 【文件属性】: 文件名称:氧气分压对磁控溅射法制备ZAO膜的影响 (2005年) 文件大小:120KB 文件格式:PDF 更新时间:2021-05-09 07:12:49 自然科学 论文 利用直流磁控溅射技术在无机玻璃衬底上制备了ZAO透明导电薄膜。研究了溅射过程中氧气分压对ZAO薄膜的结构和光电特性的影响,结果表明:当氧气分压为0Pa时,薄膜结晶度良好,具有最小电阻率和较高的可见光透过率。 立即下载