氧气分压对磁控溅射法制备ZAO膜的影响 (2005年)

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文件名称：氧气分压对磁控溅射法制备ZAO膜的影响 (2005年)

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更新时间：2024-05-29 00:59:29

自然科学 论文

利用直流磁控溅射技术在无机玻璃衬底上制备了ZAO透明导电薄膜。研究了溅射过程中氧气分压对ZAO薄膜的结构和光电特性的影响，结果表明：当氧气分压为0Pa时，薄膜结晶度良好，具有最小电阻率和较高的可见光透过率。