文件名称：论文研究-提高闪存浮栅绝缘氧化层质量的制程改善方法研究 .pdf
文件大小：537KB
文件格式：PDF
更新时间：2022-09-04 10:52:28
分栅闪存;编程性能;擦除性能;数据保持性
提高闪存浮栅绝缘氧化层质量的制程改善方法研究，张琳，，自对准分栅闪存具有较高的编程效率（Program Efficiency）及较低的擦除电压(Erase Voltage)，是目前闪存领域的研究重点。浮栅(Floating Gate)绝缘
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