Pyrex玻璃的ICP刻蚀技术研究* (2008年)

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文件名称：Pyrex玻璃的ICP刻蚀技术研究* (2008年)
文件大小：752KB
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更新时间：2021-05-25 16:57:02
工程技术 论文 以SF6/Ar为刻蚀气体，采用感应耦合等离子体（ICP）刻蚀Pyrex玻璃，研究气体流量、射频功率对刻蚀速率及刻蚀面粗糙度的影响。采用正交实验方法找出优化的实验参数，得到Pyrex玻璃刻蚀速率为106.8nm/min，表面粗糙度为Ra=5.483nm，实验发现增加自偏压是提高刻蚀速率、减小刻蚀面粗糙度的有效方法。