化学镀Ni-P薄膜生长过程的Monte Carlo模拟 (2008年)

【文件属性】：
文件名称：化学镀Ni-P薄膜生长过程的Monte Carlo模拟 (2008年)
文件大小：284KB
文件格式：PDF
更新时间：2021-04-26 08:02:39
自然科学 论文 运用Monte Carlo方法和Srolovitz等人提出的Q-state Potts模型对化学镀Ni-P薄膜生长过程进行了计算机二维形貌模拟，考察了薄膜生长时间对晶粒大小的影响。结果表明，晶粒的长大是一个相互吞噬的动态过程，随着薄膜生长，晶粒逐渐变大，单位表面内晶粒数目减少。但是当薄膜生长约500MCS后，晶粒的平均粒径基本不变，约为9.1个基本单位，相同表面内晶粒数目达到动态平衡，这与实验结果相符。