文件名称：磁控溅射制备氢掺杂氧化锌薄膜的掺杂性能研究* (2013年)
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更新时间：2024-06-07 02:18:22
工程技术 论文
主要研究了氢掺杂氧化锌(ZnO：H)薄膜的性能，发现随着H2流量比的变化，其主要表现为浅施主掺杂、钝化空位缺陷以及刻蚀等作用。当H2流量比较小时(R≤0．02)，样品沿(002)择优向生长，这时H原子主要作为浅施主掺杂，钝化氧空位和取代锌离子，使晶胞体积变小．提高ZnO薄膜的结晶性，同时使得ZnO带尾变窄，带隙变宽；SEM图观察到薄膜表面粗糙，晶粒变大、且分布均匀；薄膜电阻率下降，主要是薄膜结晶质量提高增加了电子迁移率及浅施主掺杂提高了电子浓度。当H：流量比较大时(R≥0．04)，样品XRD(002)衍射